Yarı iletken levhaların taşlanması ve parlatılması için kalsine edilmiş alümina parlatma tozu.
Plaka şeklinde kalsine alümina parlatma tozu, yarı iletken gofret taşlama ve CMP parlatma işlemleri için özel olarak geliştirilmiş yüksek kaliteli bir hassas aşındırıcıdır. Keskin kenarlı geleneksel açılı alümina aşındırıcılardan farklı olarak, bu ürün, GaAs gofretler, silikon gofretler ve safir gofretler gibi kırılgan ve yüksek hassasiyetli alt tabakaların ultra ince işlenmesi için son derece uygun olan benzersiz, pürüzsüz plaka şeklinde mikroskobik bir yapıya sahiptir. Yarı iletken endüstrisinde gofret yüzey kalitesini ve üretim verimliliğini artırmak için vazgeçilmez bir malzeme haline gelmiştir.
Levha şeklinde kalsine alümina parlatma tozu, yüksek kaliteli endüstriyel alümina tozunun hammadde olarak kullanılması ve özel bir üretim süreciyle işlenmesiyle elde edilir. Üretilen alümina parlatma tozunun kristal şekli, levha benzeri altıgen düz bir yapıdadır, bu nedenle Levha Şeklinde Alümina veya Tabla Şeklinde Alümina olarak adlandırılır.
Levha alüminanın saflığı %99’dan fazladır ve ısıya dayanıklılık, asit ve alkali korozyonuna dayanıklılık ve yüksek sertlik özelliklerine sahiptir. Geleneksel aşındırıcı küresel parçacıklardan farklı olarak, levha alüminanın alt yüzeyi düzdür ve parçacıklar taşlama sırasında iş parçasının yüzeyine uyum sağlar, bu da kaymalı taşlama etkisi yaratır ve parçacıkların keskin köşelerinin iş parçasının yüzeyini çizmesini önler. Öte yandan, levha alümina taşlamada, taşlama basıncı parçacıkların yüzeyine eşit olarak dağılır, parçacıklar kolayca kırılmaz ve aşınma direnci artar, böylece taşlama verimliliği ve yüzey kalitesi iyileştirilir.
Yarı iletken silikon levhalar gibi yarı iletken malzemeler için, alüminyum oksit levha uygulaması taşlama süresini kısaltır, taşlama verimliliğini büyük ölçüde artırır, taşlama makinesinin kayıplarını azaltır, işçilik ve taşlama maliyetlerinden tasarruf sağlar ve taşlama geçiş oranını artırır. Kalite olarak tanınmış yabancı markalara yakındır.
Resim tüpünün cam ampul taşlama işleminin verimliliği 3-5 kat artırılmıştır;
Nitelikli ürün oranı %10-15 artırıldı ve yarı iletken levhaların nitelikli ürün oranı %99’un üzerine çıktı;
Öğütme tüketimi, sıradan alümina parlatma tozuna göre %40-40 daha azdır;
Kimyasal bileşim
| Kimyasal | Garanti Değeri | Tipik Değer |
| Al2O3 | ≥%99,0 | %99,36 |
| SiO2 | <0.2% | 0.017% |
| Fe2O3 | <0.1% | 0.03% |
| Na2O | <0.6% | 0,35% |
Fiziksel özellikler
| Malzeme | α-Al2O3 |
| Renk | Beyaz |
| Özgül ağırlık | ≥3,9 g/cm³ |
| Mohs Sertliği | 9.0 |
Mevcut Bedenler
| Tip | D3(um) | D50 (bir) | D94 (um) |
| HXTA45 | 50.5-56.2 | 33-38.5 | 20.7-24.5 |
| HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
| HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
| HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
Ürün uygulaması
1) Elektronik endüstrisi: yarı iletken monokristal silikon levhaların, kuvars kristallerinin, bileşik yarı iletkenlerin (kristal galyum, fosfatlama nano) taşlanması ve parlatılması.
2) Cam sanayi: kristal, kuvars cam, kineskop cam kabuk ekranı, optik cam, sıvı kristal ekran (LCD) cam altlığı ve kuvars kristalinin öğütülmesi ve işlenmesi.
3) Kaplama endüstrisi: plazma püskürtme için özel kaplamalar ve dolgu maddeleri.
4) Metal ve seramik işleme sanayi: hassas seramik malzemeler, sinterlenmiş seramik hammaddeleri, yüksek kaliteli yüksek sıcaklık kaplamaları vb.
